PVD-Anlage 10-950

Bei der 10-950 handelt es sich um eine Großanlage, die für spezielle Werkzeuge, z. B. Räumwerkzeuge ausgelegt ist. 1,50 m Kammerhöhe und 950 Liter Volumen kennzeichnen die bisher größte Anlage unserer Baureihe.

Wie alle GPA-PVD-Anlagen ist sie nach einem Konzept aufgebaut, das Robustheit und lange Lebensdauer garantiert.

  • Doppelwandige oktagonale Beschichtungskammern aus Edelstahl, vollflächig gekühlt, für höchste Maßhaltigkeit und Optik auch nach Jahren
  • Die gesamte Anlage wird platzsparend auf einem kompakten Edelstahl-Gestell montiert
  • Plug-In System (zentraler Übergabepunkt für alle Anschlüsse wie Strom, Druckluft, Kühlaggregat, Gase) ermöglicht die Inbetriebnahme innerhalb eines Tages
  • Ent- und Beladen kompletter Chargen mittels Chargierdolly
  • Check Control: automatische Anzeige der Wartungsintervalle
  • Inclusive bewährter Rezepturen für alle Schichtsysteme
  • Eigene Entwicklungen können schnell und einfach abgespeichert werden
  • Fernwartungsmodul wahlweise über Internet oder ISDN
  • Schulung des Bedienpersonals an baugleichen Anlagen vor der Inbetriebnahme möglich
Beschichtungskammer
Abm. Ø 900 x 1.500 mm
Werkstoff austenitischer Stahl
doppelwandig; vollflächig gekühlt bzw. ausheizbar
Drehantrieb
stufenlose Drehzahlregelung
Rechts-/Linkslauf
Chargengewicht bis 500 kg
Verdampfer
10 Arc-Spot-Verdampfer in 2 à 5; alternativ
12 Arc-Spot-Verdampfer in 3 Reihen à 4
aktive Kathodenfläche 50 cm2
Verdampfer-Stromversorgungen
10 alt. 15 Stück max. 100 A
Hochspannungsversorgung
0 – 1.000 V unipolar gepulst
0 – 50 ADC 0 – 120 APuls
schnelle Arc-Abschaltung
Substratheizung
4 Heizungen à 15 kW
Substrat-Temperaturmessung
Pyrometer 150 – 550 °C
Prozessgas-Steuerung
4 Mass Flow Controller (Argon, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoffträgergas)
Vorvakuumpumpstand
Drehschieber/Rootspumpenkombination
Saugleistung S 730 m3 / h
Hochvakuumpumpe
Cryopumpe
Saugleistung H2O 18.000 ; Ar 3.700 ; N2 5.000; H2 5.500 L/sec.
Hochvakuumventil
schrittmotor-gesteuerter Regelschieber DN 400
Vakuummessung
Pirani
gasart unabhängiges Messgerät
Prozesssteuerung
Vollautomatisch, Industrie PC
Parameter, Rampen etc. frei programmierbar
Zubehör (optional)
Kalt-/Warmwasserversorgung
Prozessgasversorgung
3fach planetarisch rotierende Substrathalter